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厦门真空镀膜机厂家免费咨询 至成镀膜机生产厂家

发布时间:2021-12-19 02:35:00        作者:至成真空科技










真空镀膜技术的大概流程


真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜,使固体表面具有优于材料本身的性能,达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。因此真空镀膜技术被誉为具发展前途的重要技术之一,并已在高技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。

真空镀膜技术的大概工作流程是:首先对产品进行底涂,这样的话,会把产品表面细小的缺陷进行掩盖,也会增加金属膜和产品的附着力。随后进行真空镀膜,根据不同的产品和客户不同的要求来选择不同的金属进行蒸发,从而实现产品表面的金属效果。

后进行uv喷涂,为的是保护金属膜,也为了使产品达到一些必要的检测要求。有的客户还会要求在镀膜之后和喷涂之前加入中途工艺,来实现完成增加颜色和达到更多外观要求的目的,还可以对产品表面光泽进行调整,把产品表面从镜面效果到亚光效果。



真空镀膜设备选购要点分析


真空镀膜设备选购要点分析如下:

1、炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

2、根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备,其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。

3、夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式,用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求,转动的速度范围及转动精度:普通可调及变频调速等。

4、真空系统由机械泵、扩散泵、油增压泵、增扩泵、罗茨泵、埚轮分子泵等及与它们相匹配的各种气动、手动、电动阀门、管道等组成。


5、根据工艺要求选择镀制方式及形式,如电阻蒸发(钨丝、钼舟、石墨舟)磁控源(同轴圆柱型磁控源、园柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等)以靶材材质及尺寸多弧源(Ф60,Ф80直径靶材,气动、电动的引弧等),真空测量可选择数字式智能真空计及其的测量规管,及其它测量仪器,如自动压强控制仪等。膜厚测量可选用方块电阻测量仪,透过率计等。

6、充气方式可选用质量流量计、浮子流量计+针阀及相应的充气阀门,并可选择多路充气管路及相应流量参数。

7、根据需烘烤的结构提出烘烤温度、材质以及所需配备相应仪表测量。

8、根据设备使用特点,可选择手动、半自动、全自动或其组合的控制方式。

9、完善的报警系统,对真空室体、扩散泵断相、缺水、气压、电源负载的过压、过流等异常情况进行声光报警。



真空镀膜机薄膜均匀性概念


1.厚度上的均匀性:也能够理解为粗糙度,在光学薄膜的标准上看(也即是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜机的均匀性现已相当好,能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内,也即是说关于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何妨碍。

2.化学组分上的均匀性:即是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于标准过小而很简单的发生不均匀特性,SiTiO3薄膜,假如镀膜进程不科学,那么实践外表的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的份额,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技能含量地点。

3.晶格有序度的均匀性:这决议了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技能中的热点问题。



真空镀膜机的特点


真空电镀即真空蒸发镀膜﹐其原理是在高度真空条件下(1.3×10-2~1.3×10-1Pa)使金属铝片受热蒸发并附于(塑料)工件表面﹐形成一层金属膜的方法﹒

真空镀膜设备真空电镀机真空电镀的特点:

1、真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),能够严格生产出啤件表面的形状

2、工作电压不是很高(200V)﹐操作方便﹐但设备较昂贵﹒

3、蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生产效率较低﹒

4、只限于比钨丝熔点低的金属(如铝﹑银﹑铜﹑金等)镀饰﹒

5、对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷﹒

6、真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等﹒



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