湖州AF真空镀膜设备厂家公司「至成真空科技」

什么是DLC镀膜设备

DLC镀膜设备是在中间设置真空室，在真空室的左右两侧设置左右大门，蒸发DLC镀膜设备而在其中配装蒸发装置和磁控装置，蒸发DLC镀膜设备可在该双门上预留该两装置的接口，以备需要时换装。DLC镀膜设备作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。DLC镀膜设备技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

它应用于五金件、玻璃工艺品、陶瓷工艺品等，如手表、手机金属壳、洁具、刀具、模具、电子产品、水晶玻璃等。并且他是***在塑料玻璃金属等表面进行蒸发镀铝、鉻、一氧化硅的设备，DLC真空镀膜设备镀出的膜层牢固且细密环保，我们日常生活中都离不开DLC真空镀膜设备。

中频磁控溅射镀膜设备有哪些特点

中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜。中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜的特点是克服了阳极消失现象；减弱或消除靶的异常弧光放电。因此，提高了溅射过程的工艺稳定性，同时，提高了介质膜的沉积速率数倍。

新研发平面靶，圆柱靶，孪生靶，对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。该类设备广泛应用于表壳、表带、手机壳、高尔夫球具、五金、餐具等镀TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各种装饰镀层。

真空电镀设备的监控方法

真空电镀设备的监控方法 1、目视监控：使用眼睛监控，因为薄膜在生长的过程中，由于干涉现象会有颜色变化，我们就是根据颜色变化来控制膜厚度的，此种方式有一定的误差，所以不是很准确，需要依靠经验。 2、极值监控法：当膜厚度增加的时候其反射率和穿透率会跟着起变化，当反射率或穿透率走到极值点的时候，就可以知道镀膜之光学厚度ND是监控波长（入）的四分之一的整倍数。但是极值的方法误差比较大，因为当反射率或者透过率在极值附近变化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有变化。反映比较灵敏的位置在八分之一波长处。 3.定值监控法：此方法利用停镀点不在监控波长四分之一波位，然后由计算机计算在波长一时总膜厚之反射率是多少，此即为停止镀膜点。